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以碳化硅為代表的第三代半導(dǎo)體

作者 金嶺環(huán)保 瀏覽 發(fā)布時間 17-08-05

 

      以碳化硅為代表的第三代半導(dǎo)體,與單晶硅和砷化鎵等傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料相比,具有明顯的優(yōu)勢,如高熱導(dǎo)率、高擊穿場強、高飽和電子漂移速率、高鍵合能、高化學(xué)穩(wěn)定性、抗輻射性強等,決定了碳化硅在諸多領(lǐng)域有著不可替代的地位。主要如下:

      1、         SiC具有高熱導(dǎo)率(達到4.9W/cm*K),是Si3.3倍。因此,SiC材料散熱效果好,理論上,SiC功率器件可在175℃結(jié)溫下工作,因此散熱器的體積可以顯著減小,適合用來制作高溫器件。

      2、         SiC具有高的擊穿場強,其擊穿電場是Si10倍,因而適用于高壓開關(guān),最大功率處理能力強,使得SiC材料適于制作大功率、大電流器件。

      3、         SiC具有高的飽和電子漂移速率,其數(shù)值是Si2倍,在高場下幾乎不發(fā)生衰減,其高場處理能力強,因此,SiC材料適用于高頻器件。

      碳化硅單晶在制備技術(shù)上也是第三代半導(dǎo)體材料中最成熟的,因此SiC是制作高溫、高頻、大功率、高壓器的理想材料之一。